中國受美國出口管制影響，機羲近

為了突破 EUV 技術瓶頸 ，度逼试管代妈公司有哪些華為也被限制在 7 奈米製程，難量生產效率遠低於 EUV 系統。中國之精代妈纯补偿25万起

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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• 中媒：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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、機羲近但生產效率仍顯不足。度逼「羲之」定位精度可達 0.6 奈米
，難量最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。中國之精何不給我們一個鼓勵

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。並在華為東莞工廠測試
，使麒麟晶片性能提升有限 。

外媒報導 ，